Într-o pulverizare cu Magnetron dezechilibrat, plasma este, de asemenea, trasă în sus în substrat, iar ionii de argon bombardează, de asemenea, pelicula subțire în creștere. … Prezența electronilor în jurul substratului duce la ionizarea atomilor de gaz neutru și la pătrunderea plasmei în această regiune.
De ce pulveriza un magnetron?
Pulverizarea cu magnetron folosește un câmp magnetic închis pentru a capta electronii, crescând eficiența procesului inițial de ionizare și creând plasmă la presiuni mai scăzute, reducând atât încorporarea gazului de fond în creșterea pierderi de peliculă și energie în atomul pulverizat prin ciocniri cu gaze.
Ce se poate aplica pentru pulverizarea cu magnetron?
5 Depunere prin pulverizare cu magnetron. Pulverizarea cu magnetron este o tehnică de acoperire cu vid de mare viteză care permite depunerea multor tipuri de materiale, inclusiv metale și ceramică, pe cât mai multe tipuri de materiale substrat prin utilizarea unui magnetic special format. câmp aplicat unei ținte de pulverizare cu diode.
Ce este pulverizarea magnetronului dezechilibrat în câmp închis?
Sistemul de placare cu ioni cu magnetron neechilibrat în câmp închis, dezvoltat de Teer Coatings Ltd, produce condiții de depunere optimizate care permit depunerea de acoperiri dense, dure, cu aderență excelentă. Aranjamentul CFUBMSIP este acoperit de brevete acordate Teer Coatings Ltd.
Ce este magnetronul dezechilibrat?
Magnetronii sunt de obicei clasificați ca „echilibrat” sau „dezechilibrat”. … Dacă punctul nul este aproape de suprafața țintă, electronii pot scăpa mai ușor și magnetronul este dezechilibrat. Modelele neechilibrate pot produce un bombardament ionic ridicat al peliculei subțiri în același timp cu depunerea.
